荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography，占領中高該全稱已經不作為公司標識使用，端市到億公司的場豪注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾(中國大陸)、言年營收艾司摩爾(中國臺灣)。歐元這是光刻一家總部設在荷蘭埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半導體設備制造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
要想要生產制造先進制程的芯片，就必須要有先進的光刻機，在全球范圍內，目前光刻機技術最先進的廠商是ASML。
據悉，ASML生產制造的光刻機幾乎占領了中高端市場，尤其是DUV光刻機和EUV光刻機，在這兩種光刻機中，EUV光刻機最為重要。
因為EUV光刻機是生產制造5nm、3nm等芯片必要設備，關鍵是目前僅有ASML能制造。
另外，EUV光刻機被制造出來后，其就供不應求，今年的產能是45臺，預計未來兩年將生產制造115臺。
在這個科技造富的時代，科技與經濟之間存在著互相影響、促進的關系。基于此點，當下很多科技公司的造富能力是十分強悍的。而在全球的科技領域之中，半導體是一個相當熱門的領域。由于芯片是手機、電腦等很多科技產品的核心部件，因此市場需求量一直很高。但芯片的生產制造可不是一件簡單的事。很多科技公司雖然能夠設計出高端的芯片方案，但是能否生產出來卻成為了問題。之所以會這樣，很大的一部分原因就是缺乏高端的光刻機設備。
舉例而言，我國的華為海思在芯片半導體設計方面，實力位居世界前茅。但無奈一直缺乏高端光刻機設備，所以國內市場無法實現高端芯片的自給自足。由此可見，光刻機無疑是半導體生產環節中的關鍵設備。而說到光刻機，就不得不提到來自荷蘭的科技巨頭--ASML公司。縱觀全球的光刻機市場，ASML處于絕對的主導地位。ASML旗下的EUV光刻機產品，是如今全球最為高端的光刻機，也是中高端芯片生產環節中不可或缺的設備。
在全球光刻機市場“獨占鰲頭”的ASML公司，也是成為了眾多半導體相關企業眼中的“香餑餑”。比如全球最大的芯片代工廠臺積電，之所以能夠在尖端芯片制程上保持領先，得到了ASML的光刻機設備支持就是十分關鍵的一點。除此之外，諸如英特爾、三星電子、中芯國際等科技巨頭，也都是ASML的主要客戶。眾所周知，如今全球的芯片供應嚴重短缺，各大巨頭企業都提出了加大產能的計劃。在這種情況下，ASML公司也將成為直接的受益者。
ASML的EUV光刻機賣到10億一臺，依然供不應求，該公司日前上調了未來10年的營收預期。
ASML阿斯麥周三上調了財務預期，并表示由于市場對其產品的需求旺盛，該公司到2030年的年收入增幅將達到11%左右。
該公司執行長Peter Wennink在向投資者介紹時表示：”我們對產品需求數量感到非常滿意，這些需求不包括因美國、中國和歐洲對技術主權的追求而可能產生的額外芯片需求。”
在一份市場更新報告中，阿斯麥估計，到2025年，公司收入將達到240億至300億歐元(280億至350億美元)，毛利率將高達55%。
也就是因為EUV光刻機是當下最先進的技術，再加上，其又供不應求，所以ASML的EUV光刻機在沒有許可的情況下，是不能自由出貨的。
EUV光刻機不能自由出貨，很多人都認為這是因為美修改規則，畢竟ASML又采用美技術，所以美不允許ASML自由出貨EUV光刻機。
但實際上，EUV光刻機能否自由出貨，并非美一家說得算，因為ASML的EUV光刻機采用了多達42個國家的核心技術，凡是有一個國家不同意，其就不能自由出貨。
任正非增加了“三不原則”，華為成立了一家投資公司，任正非四年前正式簽署了第126號文件，并且在文件上增加了" 不碰數據、不做應用、不做股權投資 " 的 " 三不原則 "，這不僅是華為業務的發展原則和方向準則，而且是華為的“底線”。但是在2019年，任正非打破了被公司員工們視為“清規戒律”的“三不原則”，這主要是因為華為成立的一家投資公司。
要知道，華為一直遵循著不對外國企業進行投資的原則，因為一旦投資，就意味著華為需要將對方當成公司的終身供應廠商。而華為希望可以國際化采購，不要局限于只有一個供應廠商這樣一個認知。為了解決芯片面臨的“卡脖子”問題，華為斥資成立了哈勃科技投資有限公司，這家投資公司的注冊資金為7億元，主營創業型股權投資產業。
哈勃科技在短短的兩年時間里投資了56家公司，其中，半導體公司占據了52家，基本覆蓋了半導體全產業鏈的設計、軟件、材料、設備、封裝等技術。由此可見，華為計劃通過股權投資，促進各大公司的技術研發和人才培養。但令人始料不及的是，根據荷蘭ASML公司發布的一份數據顯示，該司基本確定了全球芯片產業未來五年的發展格局。
對于ASML公司三年只是制造了130臺EUV光刻機一事，許多人表示疑惑，為何ASML無法提升EUV光刻機的產能呢?眾所周知，EUV光刻機的制造難度“堪比登天”，它是半導體行業最為頂尖的核心設備。制造一臺EUV光刻機不僅需要投入大量資金和人才，而且需要使用來自上百個國家的十萬多個零件和多項頂尖技術，所以其產能無法在短時間內迅速提升。
ASML采用了美國的光源技術、德國徠卡鏡頭和多層膜技術以及其它國家的真空技術、抗腐蝕技術、掩模照明光學系統等。
可以說，EUV光刻機的零部件超過10萬個，其中，光源技術、微縮投影光學系統等8項是最核心的技術。
可以說，這些核心元器件來自不同國家的企業，才促使ASML生產制造出來這么先進的設備，所以在EUV光刻機出貨方面，需要42個國家都同意才能夠自由出貨，并美一家。
在光刻機領域內，技術最先進的廠商是ASML，因為在全球范圍內，ASML研發生產的光刻機幾乎占領了中高端市場。
尤其是ASML研發生產的EUV光刻機，可以說是一機難求，而ASML更是積壓了幾十億歐元的EUV光刻機。
這都是因為EUV光刻機是生產制造Seven納米以下制程芯片的必要設備，也就因為EUV光刻機供不應求，還積壓了幾十億歐元的訂單，所以ASML決定進一步提升產能。
