芯片對我們國家的光刻膠發展具有很重要的意義，但是國半高精端芯片的發展離不開光刻機，現如今高端光刻機基本被外國所壟斷。導體而光刻膠則是光刻膠光刻機研發的重要材料，它是國半一種有機化合物，它被紫外光曝光后，導體在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。
光刻膠特性
1、儲存時間短保質期短暫，有效期僅有 90 天;
2、粘附性，光刻膠的粘附性必須經受住后續工藝(刻蝕、離子注入等);
3、抗蝕性，耐熱穩定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力;
4、表面張力，光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。
光刻膠發展現狀
按照下游應用，光刻膠可分為半導體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB用光刻膠等，其技術壁壘依次降低。相應地，PCB光刻膠是目前國產替代進度最快的，LCD光刻膠替代進度相對較快，半導體光刻膠目前國產技術較國外先進技術差距最大。
2019年全球光刻膠市場規模預計近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預計未來3年仍以年均5%的速度增長，預計至2022年全球光刻膠市場規模將超過100億美元。
2011-2018年中國光刻膠行業需求量情況(萬噸)
全球半導體光刻膠分地區市場份額
日本、歐美的專業公司壟斷，其中，日本的企業占據 80%的全球市場。光刻膠主要企業包括日本的 TOK、JSR、富士、信越化學和住友化學，美國的陶氏化學、歐洲的 AZEM 和韓國的東進世美肯等，而國內在高端光刻膠及配套關鍵材料產品方面一直處于空白狀態。
1、全球PCB光刻膠主要生產企業
PCB光刻膠，技術含量較低。全球PCB光刻膠市場規模在20億美元左右，中國市場規模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內資企業的不斷發展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產基地。
2、LCD光刻膠的組成成分
LCD光刻膠的全球供應集中在日本、韓國、中國臺灣等地區，海外企業市占率超過90%。彩色濾光片所需的高分子顏料和顏料的分散技術主要集中在Ciba等日本顏料廠商手中，因此彩色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術基本被日本和韓國企業壟斷。
光刻膠不止應用于芯片，在高端面板、模擬半導體、發光二極管、光電子器件以及光子器件上應用廣泛，現在我們需要的高端光刻膠基本是從國外進口，這不僅會影響我國光刻機的研制，更會影響其他相關產業的發展。但是隨著中國經濟與科技的快速發展，自主研發是趨勢所向，我們需要腳踏實地的一個個將諸多難關攻破，才有可能研制出屬于中國人的光刻膠。
