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華為公布“芯片堆疊結(jié)構(gòu)及其形成方法、芯片封裝結(jié)構(gòu)、電子設(shè)備”專利

最近,公布華為技術(shù)有限公司新增了多項專利信息。芯片形成芯片其中一項專利名稱為“芯片堆疊結(jié)構(gòu)及其形成方法、堆疊電設(shè)芯片封裝結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)及其結(jié)構(gòu)電子設(shè)備”,法封裝公開號碼為cn116504752a。備專

華為公布“芯片堆疊結(jié)構(gòu)及其形成方法、芯片封裝結(jié)構(gòu)、電子設(shè)備”專利

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芯片技術(shù)領(lǐng)域的公布應用概要,用于簡化芯片堆疊結(jié)構(gòu)及其形成方法、芯片形成芯片芯片封裝結(jié)構(gòu)、堆疊電設(shè)電子設(shè)備、結(jié)構(gòu)及其結(jié)構(gòu)芯片堆棧結(jié)構(gòu)的法封裝制造技術(shù)。該芯片的備專堆疊結(jié)構(gòu)至少包括兩個堆疊的芯片,每一個芯片包括電線層,公布電線層設(shè)有電具組。芯片形成芯片其中至少有兩個芯片:堆疊的堆疊電設(shè)第一個芯片與第二個芯片,第一個芯片與第二個芯片之間通過耦合層電連接。結(jié)合層包括第1區(qū),圍繞第1區(qū)的第2區(qū),第1區(qū)和第2區(qū)以外的第3區(qū)。結(jié)合層的第一區(qū)域,第一芯片層的投影法和第一芯片層的前工具結(jié)構(gòu)至少部分一致。金屬相層設(shè)置在第一,第三區(qū)域。

說明書中提到,它將用于簡化芯片堆疊結(jié)構(gòu)及其形成方法、芯片封裝結(jié)構(gòu)、電子設(shè)備技術(shù)和芯片堆棧結(jié)構(gòu)的制造技術(shù)。

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