11月10-11日，行芯新生第 29 屆ICCAD設計年會在廣州保利世貿博覽館盛大開幕。全面本次年會以“灣區有你，助力展芯向未來”為主題，行芯新生深入探討集成電路產業面臨的全面機遇和挑戰；提升創新能力，增強中國集成電路產業鏈的助力展綜合能力，以滿足市場的行芯新生需求和提高國際競爭力。

行芯作為國內領先的全面EDASignoff解決方案供應商，受邀參加此次盛會并發表演講。助力展展覽期間，行芯新生行芯全方位展現了基于Golry平臺打造的全面Signoff工具鏈，吸引眾多產業上下游企業及人士駐足關注與交流。助力展

面對功耗-性能-成本的行芯新生極致挑戰，行芯自研大容量計算平臺，全面通過底層架構與算法上的助力展突破與創新，打造了Extraction、Electromigration、IR Drop、Power、Thermal、Multi-physics等領域的Signoff工具鏈，同時為設計端和制造端提供有競爭力的、特色化的EDA方案。 在“EDA與IC設計”專題論壇中，行芯銷售總監任旭發表題為《底層融合賦能簽核高維度創新》的演講，分享了行芯針對先進工藝芯片Signoff環節的協同分析解決方案，以及加速PPA收斂的探索和經驗。

任旭在演講說到：

先進工藝復雜結構和晶體管縮微帶來大量的復雜工藝效應，加大了Signoff工具的開發難度。行芯在自主研發的Glory平臺上，以寄生參數提取為橋梁，打通時序、電遷移、電壓降、功耗、熱、可靠性等Signoff的關鍵環節，實現了3D到2.5D/2D的統一建模。原生性地實現了器件級到晶體管級到門級的結果自洽，利用人工智能輔助建立工藝文件和建模流程，大幅縮短PDK開發周期。行芯在多物理場耦合熱仿真和功耗簽核間利用底層融合的巧妙思路，將兩者建模結合快速回歸迭代仿真， 解決3DIC的仿真痛點。

未來，行芯將始終秉承“與芯同行，賦能中國芯”的使命，堅持創新驅動發展，賦能產業鏈整體效能提升，全面助力EDA創新生態發展，推動后摩爾時代集成電路的高質量發展。

審核編輯：彭菁