來源：半導體芯科技編譯

臺積電與半導體設備供應商ASML計劃采用Nvidia的聲稱生產速度 "cuLitho "軟件庫來簡化芯片生產的一個關鍵部分。

Nvidia表示已經找到了一種方法，芯片可以讓科技行業以更快的突破速度生產下一代芯片，同時降低能源成本。聲稱生產速度

Nvidia首席執行官Jensen Huang在該公司的芯片GTC活動上宣布，這家GPU制造商已經開發出一種方法，突破可以簡化芯片制造過程中的聲稱生產速度一個關鍵部分，即光刻技術。芯片光刻技術本質上是突破利用光在硅片上創造復雜的圖案，以形成微觀的聲稱生產速度晶體管。

臺積電和英特爾等芯片制造商使用昂貴的芯片光刻機，通過 "光罩 "或 "網罩 "投射光線，突破從而在硅晶圓上打印出圖案。聲稱生產速度為了打印出納米級的芯片圖案，半導體制造商必須依靠所謂的突破計算光刻技術（在新窗口中打開）或專門的計算機模型來優化光罩，防止制造過程中出現缺陷。

問題是，計算光刻技術需要大量的計算和數據處理；Jensen稱它是 "芯片設計和制造中最大的計算工作量"。因此，需要大規模的數據中心，迫使芯片制造商在計算資源和電力方面花費巨大。

作為回應，Nvidia正在推出 "cuLitho"，該公司稱這種軟件庫可以將計算光刻的速度提高到40倍。Jensen舉例，使用現有的基于CPU的方法，Nvidia H100企業級GPU的一個網紋可能需要兩周時間來處理。有了cuLitho，一個芯片制造商只需要一個8小時的輪班。

在另一個例子中，Jensen補充說："臺積電可以通過在500個DGX H100系統上使用cuLitho加速，減少他們用于計算光刻的40,000臺CPU服務器。"

這也將使臺積電的計算光刻機功率需求從35兆瓦減少到只有5兆瓦。此外，cuLitho有望幫助制造商縮短構建芯片的原型設計期，同時幫助他們達到2納米及以下的處理器設計。

Nvidia花了四年時間開發cuLitho，它在該公司的企業GPU硬件上運行。為Nvidia和蘋果公司制造芯片的臺積電公司計劃從6月開始對cuLitho進行 "資格認證"，Jensen補充說。光刻機制造商ASML也在與該公司合作，在未來將cuLitho整合到其產品中。

Nvidia補充說："在短期內，使用cuLitho的工廠可以幫助每天生產3到5倍的光罩--芯片設計的模板--使用比目前配置少9倍的功率。"從長遠來看，cuLitho將實現更好的設計規則、更高的密度、更高的產量和人工智能驅動的光刻技術。"

審核編輯：湯梓紅